【建模干货】次世代美少女战士建模步骤参考!
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什么是次世代?
次世代是个舶来语,“次世代游戏”指代和同类游戏相比下更加先进的游戏,即“下一代游戏”。
次世代是利用高模烘焙的法线贴图回帖到低模上,让低模在游戏引擎里可以及时显示高模的视觉效果。模型面数比较高,采用法线贴图来描绘物体表面细节的凸凹变化;颜色贴图来表现物体的颜色和纹理;高光贴图来表现物体在光线照射条件下体现出的质感,增加贴图的大小。
根据二维原画设定制作中模
导进Zbrush进行高模雕刻
拓补低模
展分UV
烘焙(将高模细节烘焙到低模上面)
绘制贴图
引擎中调整
今天旺旺哒就给大家分享一个次世代游戏人物的建模过程~
在原画师概念原画设计的基础上利用Zbrush制作基础裸模,完成角色形体模型、人体的精细雕刻、面部雕刻等等工作。最后完成人体裸模上色以及实体风格头发雕刻。完成了模型制作,就意味着次世代的人物建模就已经初具雏形了。
完成高模制作后,将第一步Zbrush制作的模型导入Maya制作角色身上的衣服和装备,人物角色的硬表面机械盔甲制作、角色装备的中模大型制作、角色装备的高模雕刻、角色特殊的零部件制作(锁子甲/捆绳/蕾丝花纹)等等。
如果角色身上的衣服布料较多的话可以使用 Marvelous Designer来运算。低模制作完之后进行卡线处理。
将卡完线的模型导入zbrush中升面,然后雕刻细节,主要处理衣服的褶皱,铠甲磨损,还有人物身上的细节。因为模型部件较多,避免因为面数过高导致卡顿,最好分组进行制作。
对高低模进行匹配,根据模型结构来进行拓扑。因为高模的面数太多无法导入引擎,我们必须拓扑出一个低模,这一步除了降低模型面数之外,最主要是布线的规范。软件除了maya之外,使用Topogun等拓扑软件也可以。
将拓扑好的低模展开uv用于后期制作贴图,展UV可以直接在Maya里进行,也可以使用一些专门展UV的软件,比如RizomUV 等等。UV的排布也是需要注意的地方。并且为了增加贴图的精细度,我们可能需要用到多张uv。
在贴图拓扑前完成高模减面整合、Zbrush拓扑低模、UV拆分、展放、摆放、游戏角色中光滑组软硬边。将低模和烘焙好的贴图导入Sp(substance painter),给模型绘制材质贴图。
将调整好姿势的模型贴上贴图,然后调整灯光,使用Arnold渲染器渲染出图。这样一个完美的次世代人物就做好啦~
王氏教育作品欣赏-2D
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